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集成电路用ArF干式光刻胶 - 水分的测试方法

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T/ICMtia 5.1-2020 集成电路用ArF干式光刻胶

范围
本文件规定了ArF干式光刻胶的要求、试验方法、检测标准及包装、运输、存储要求。
本文件适用于集成电路用ArF干式光刻胶。

术语和定义
ArF: Argon Fluoride 氟化氩
PFA: Perfluoroalkoxy alkane 全氟烷氧基树脂
NMP: N-甲基吡咯烷酮
PGMEA: 丙二醇甲醚醋酸酯

技术要求
性状
无色至淡微黄色透明液体。
技术规格及指标
表1.jpg

测试方法
水分
卡尔·费休库仑法
按 GB/T 6324.8 的规定测定。
GB/T 6324.8-2014 有机化工产品试验方法第8部分: 液体产品水分测定卡尔·费休库仑电量法
卡尔·费休容量法
按 GB/T 606 的规定测定。
GB/T 606-2003 化学试剂水分测定通用方法卡尔·费休法
测试方法的选择
当样品中含水量较高时，推荐使用卡尔·费休容量法；含水量较小时(1000ppm以下)，使用卡尔·费休库仑法能得到更准确的结果。

京都电子KEM 卡尔·费休库仑法水分测定仪 MKC-710S

https://www.kem-china.com/productshow_1000.html
京都电子KEM 卡尔·费休容量法水分测定仪 MKV-710S

https://www.kem-china.com/productshow_997.html

MKC-710+MKV-710.jpg ‍

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